半导体材料行业分会（半导体材料展）
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2022年国内半导体产业展望(上)
1、根据市场研究公司CounterpointResearch的预测，2023年全球半导体行业将可能迎来5%-10%的负增长，而以后2-3年也将维持在低于8%的低速区间徘徊运行。然而，中国半导体产业仍然保持着正增长。
2、《科创板日报》（编辑 郑远方）， 日前，全球半导体厂商相继公布2021年全年业绩的同时，也展开了2022年行业展望。
3、行业主要上市企业：目前国内第三代半导体行业的上市公司主要有华润微(688396)；三安光电(600703)；士兰微(600460)；闻泰科技(600745)；新洁能(605111)；露笑科技(002617)；斯达半导(603290)等。
4、较2021年5950亿美元增长1%。排名前25位半导体厂商的总收入在2022年增长了8%，占到75%的市场份额。此外，世界半导体贸易组织（WSTS）预测全球半导体行业销售额将于2022年突破6，000亿美元，增幅8%。
5、消费电子行业的下行态势，正在持续影响上游半导体厂商的业绩表现。
6、晶盛机电在近日接受机构调研时表示，受下游需求拉动及贸易政策影响，国内半导体产业呈现快速发展势头，公司半导体设备业务也取得快速发展，截至2022年9月30日，未完成半导体设备合同26亿元(含增值税)。
请问国产半导体还有发展吗?
国产化进程将加速未来，在市场规模趋势方面，我国第三代半导体行业将持续保持高速增长；在细分产品发展趋势方面，SiC需求将会增长，GaN应用场景将进一步拓展；在技术发展趋势方面，大尺寸Si基GaN外延等问题将会有所进展。
随着时间的推移，国产半导体装备在技术、性能和市场份额等方面有望逐步迎头赶上。总的来说，国产半导体装备追赶国际知名半导体装备大企业最先进技术仍然面临一定的挑战，但是随着技术积累和支持政策的不断加强，也存在着一定的希望。
中国半导体公司仍处于发展阶段，可供整合的标的不多，加之行业整合难度高、知识产权保护制度仍有待发展，处于对收购效果的顾虑，中国半导体企业并购热情不高，整合案例寥寥。
什么是第三代半导体?包你能看懂
1、③第三代半导体材料： 以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化锌(ZnO)、金刚石为四大代表，是5G时代的主要材料。 起源时间： M国早在1993年就已经研制出第一支氮化镓的材料和器件。
2、第三代半导体材料以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石(C)为代表，我国从1995年开始涉足第三代半导体材料的研究。
3、第三代半导体产业链分为上游原材料供应，中游第三代半导体制造和下游第三代半导体器件环节。
4、第三代半导体材料主要以碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、氧化锌（ZnO）、金刚石、氮化铝（AlN）为代表的宽禁带半导体材料。
5、第三代半导体主要是氮化镓（GaN）、碳化硅（SiC）、金刚石为代表的材料，这类半导体更多应用于未来5G时代的发展。氮化镓往往应用于小功率器件，比如现有的快充充电器。
什么是半导体行业?为何叫半导体
半导体（ semiconductor），指常温下导电性能介于导体（conductor）与绝缘体（insulator）之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。
半导体行业是指制造半导体及相关产品的产业。半导体是一种材料，可以在一定条件下将电子传导的能力控制在一定范围内，因此广泛应用于电子器件中。半导体行业具有高技术含量、高附加值和高利润等特点，是信息产业的重要组成部分。
半导体是指一种导电性可控，范围从绝缘体到导体之间的材料。从科学技术和经济发展的角度 来看，半导体影响着人们的日常工作生活，直到20世纪30年代这一材料才被学界所认可。
半导体核心材料—光刻胶概述
1、光刻胶是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
2、光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
3、光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。增感剂 是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
4、有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。
5、半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱(300～450nm)、G 线(436nm)、 I 线(365nm）、深紫外(DUV，包括248nm和193nm)和极紫外(EUV)，相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。
